特許
J-GLOBAL ID：201003002347917060
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-113577
公開番号（公開出願番号）：特開2010-120923
出願日： 2009年05月08日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(b1-15)で表される化合物;該化合物からなる酸発生剤;酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び該化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式中、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、一般式(b15-1)で表される官能基で置換された置換アリール基である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-15)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
C07C 381/12
, G03F 7/004
, C09K 3/00
, G03F 7/039
, H01L 21/027
C07C381/12
, G03F7/004 503A
, C09K3/00 K
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H125AF18P
, 2H125AF33P
, 2H125AF35P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF45P
, 2H125AH12
, 2H125AH13
, 2H125AH17
, 2H125AJ12X
, 2H125AJ13Y
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ44Y
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AN02P
, 2H125AN37P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN63P
, 2H125AN64P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB08
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
