新規な化合物およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-331163
公開番号（公開出願番号）：特開2009-149588
出願日： 2007年12月21日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物を合成する際の中間体として有用な新規な化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(b0-1)で表される化合物。式中、RXは置換基(ただし窒素原子は除く。)を有していてもよい炭化水素基であり;Q2およびQ3はそれぞれ独立に単結合または2価の連結基であり;Y1は炭素数1〜4のアルキレン基またはフッ素化アルキレン基であり;R3〜R6はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を有していてもよい炭化水素基であり、R3〜R6のうちの少なくとも1つは前記炭化水素基であり、R3〜R6のうちの少なくとも2つがそれぞれ結合して環を形成していてもよい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(b0-1)で表される化合物。

IPC (3件)：

C07C 309/17 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3件)：

C07C309/17 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA01 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025DA03 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 4H006AA02 , 4H006AC61

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-201310 出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (11件)

新規スルホナート、その製造法及びこれを含有するかび取り剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-122770 出願人：花王株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-247229 出願人：富士写真フイルム株式会社
樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-238712 出願人：協和油化株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Investia Akademii nauk SSSR. Seria himiceskaa, 1967, 6, 1289-94

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