レーザ光源装置、レーザ加工装置、レーザ光源装置の制御装置、およびレーザ光源装置の制御方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊 , 酒井將行 , 荒川伸夫 , 佐々木眞人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-047922
公開番号（公開出願番号）：特開2010-232650
出願日： 2010年03月04日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】ファイバレーザおよび非線形光学素子によって、所望の波長および所望のパワーを有するレーザ光を発生させることを可能にする技術を提供する。【解決手段】レーザ光源101は、シードLD2と、光増幅ファイバ1,11と、励起LD3,9A〜9Dと、波長変換素子を含む波長変換部14とを備える。シードLD2は、パルスレーザ光を発する。光増幅ファイバ1,11は、パルスレーザ光と励起光とが入射されることによりパルスレーザ光を増幅可能に構成される。励起LD3(9A〜9D)は、励起光を発する。波長変換部14は、光増幅ファイバ1,11によって増幅されたパルスレーザ光としての増幅光を受けることによって、増幅光とは波長が異なる波長変換光を発生させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パルスレーザ光を発するパルス光源と、前記パルスレーザ光と励起光とが入射されることにより前記パルスレーザ光を増幅可能に構成された光増幅ファイバと、前記光増幅ファイバに入射されるための前記励起光を発する励起光源と、前記光増幅ファイバによって増幅された前記パルスレーザ光としての増幅光を受けることによって、前記増幅光とは波長が異なる波長変換光を発生可能な波長変換素子とを備える、レーザ光源装置。

IPC (4件)：

H01S 3/06 , H01S 3/00 , G02F 1/37 , B23K 26/08

FI (4件)：

H01S3/06 B , H01S3/00 B , G02F1/37 , B23K26/08 K

Fターム (30件)：

2K002AA04 , 2K002AB12 , 2K002AB27 , 2K002BA02 , 2K002BA03 , 2K002CA02 , 2K002CA03 , 2K002DA01 , 2K002EA30 , 2K002HA19 , 2K002HA20 , 4E068CA02 , 4E068CA03 , 4E068CD08 , 5F172AF02 , 5F172AF03 , 5F172AF06 , 5F172DD03 , 5F172EE13 , 5F172EE15 , 5F172NN11 , 5F172NR13 , 5F172NR14 , 5F172NR22 , 5F172NS18 , 5F172NS19 , 5F172NS22 , 5F172NS23 , 5F172NS25 , 5F172ZZ01

引用特許：

審査官引用 (6件)

高繰り返し高ピーク出力ファイバレーザ
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-066244 出願人：株式会社アライドレーザー
レーザシステム及び超短パルスのパルスレーザからなるバーストを用いたメモリリンクの加工方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-551650 出願人：エレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッド
レーザパターン修正方法並びに修正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-222556 出願人：日本電気株式会社

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