特許
J-GLOBAL ID：201003025292716035

光ファイバの製造方法及び光ファイバの製造装置

発明者：
桑原 一也

桑原 一也 について

, 
山▲崎▼ 卓

山▲崎▼ 卓 について

, 
平野 正晃

平野 正晃 について


出願人/特許権者：
住友電気工業株式会社

住友電気工業株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹 ,  近藤 伊知良
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-012134
公開番号（公開出願番号）：特開2010-168247
出願日： 2009年01月22日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：
【課題】破断頻度を増大することなく、伝送損失を低減することが可能な光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る光ファイバの製造方法は、光ファイバ母材2を加熱線引きする線引き炉11と、当該線引き炉11の下方に配置し、当該線引き炉11によって線引きされた光ファイバ3の仮想温度を制御する徐冷炉21とを用いた光ファイバの製造方法において、線引き炉11によって線引きされた光ファイバ3を、徐冷炉21の上端から下端へ向けて徐冷炉21内を通過させることによって仮想温度を制御し、徐冷炉21の下端の雰囲気のクリーン度を500count/1CF未満とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、当該線引き炉の下方に配置し、当該線引き炉によって線引きされた光ファイバの仮想温度を制御する熱処理炉とを用いた光ファイバの製造方法において、 前記線引き炉によって線引きされた光ファイバを、前記熱処理炉の上端から下端へ向けて前記熱処理炉内を通過させることによって仮想温度を制御し、 前記熱処理炉の下端の雰囲気のクリーン度を500count/1CF未満とする、 光ファイバの製造方法。
IPC (1件)：
C03B 37/12
FI (1件)：
C03B37/12 A
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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