試料高さ測定方法及び試料高さ測定装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上学 , 戸田裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-014876
公開番号（公開出願番号）：特開2010-175249
出願日： 2009年01月27日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：

【課題】本発明は、アスペクト比の大きなパターンの高さ(深さ)測定を実現することが可能な試料高さ測定方法、及び装置の提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料上の第1の部分の高さと、第2の部分の高さの差違に関する情報と、前記第2の部分の輝度に関する情報を関連付けて記憶媒体に記憶させ、前記試料に荷電粒子線を走査したときに検出される荷電粒子に基づいて、前記第2の部分の輝度に関する情報を検出し、当該検出された輝度に関する情報と、前記記憶媒体に記憶された情報に基づいて、前記試料上の第1の部分と第2の部分との差違を求める方法、及び装置を提案する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

試料に荷電粒子線を走査して得られる画像に基づいて、試料上に形成されたパターンの高さ方向の寸法を測定する試料高さ測定方法において、前記試料上の第1の部分の高さと、第2の部分の高さの差違に関する情報と、前記第2の部分の輝度に関する情報を関連付けて記憶媒体に記憶させ、前記試料に荷電粒子線を走査したときに検出される荷電粒子に基づいて、前記第2の部分の輝度に関する情報を検出し、当該検出された輝度に関する情報と、前記記憶媒体に記憶された情報に基づいて、前記試料上の第1の部分と第2の部分との高さの差違を求めることを特徴とする試料高さ測定方法。

IPC (5件)：

G01B 15/00 , H01J 37/28 , H01J 37/22 , H01L 21/66 , H01J 37/20

FI (7件)：

G01B15/00 K , H01J37/28 B , H01J37/22 502E , H01L21/66 P , H01L21/66 J , H01J37/22 502H , H01J37/20 H

Fターム (27件)：

2F067AA23 , 2F067AA24 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067EE14 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067KK08 , 2F067PP12 , 2F067QQ02 , 2F067RR30 , 2F067RR33 , 2F067RR44 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106CA48 , 4M106DB05 , 4M106DB18 , 4M106DB20 , 4M106DJ18 , 5C001BB07 , 5C001CC04 , 5C033UU04 , 5C033UU08 , 5C033UU10

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭61-239107
走査形電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-000222 出願人：株式会社日立製作所
試料観察条件設定方法及び装置、並びに試料観察方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-057552 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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