特許
J-GLOBAL ID：200903016633000963
リソグラフ装置および光リソグラフシミュレーションを用いて照明源を最適化する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-035045
公開番号（公開出願番号）：特開2004-247737
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】コンピュータシミュレーションによるリソグラフ投影装置の照明条件の最適化。【解決手段】コンピュータシミュレーションによってリソグラフ投影装置の照明条件を最適化する方法において、リソグラフ投影装置は、照明器と、投影系とを含み、照明条件を最適化する方法は、基板上に転写されるリソグラフパターンを画定する段階と、シミュレーションモデルを選択する段階と、照明器の瞳面内の光源点の格子を選択する段階と、各投射源点について、各々がシミュレーションモデルを用いての単一の、または、一連のシミュレーションの結果である個別応答を計算する段階と、個別計算の蓄積された結果に基づいて照明配置を調整する段階とを含む。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
コンピュータシミュレーションによってリソグラフ装置の照明条件を最適化する方法において、
前記リソグラフ装置が、照明器と投影系とを含み、
基板上に転写されるリソグラフパターンを規定する段階と、
シミュレーションモデルを選択する段階と、
前記照明器の瞳面内の放射源点の格子を選択する段階と、
各放射源点について、各々が前記シミュレーションモデルを用いての単一の、または、一連のシミュレーションの結果である個別応答を計算する段階と、
前記個別計算の蓄積された結果の解析に基づいて前記照明器の照明配置を調整する段階とを含むコンピュータシミュレーションによってリソグラフ装置の照明条件を最適化する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516C
, G03F7/20 521
5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046CA07
, 5F046CB05
, 5F046CB10
, 5F046CB23
, 5F046DA01
, 5F046DA02
, 5F046GA03
, 5F046GA14
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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