特許
J-GLOBAL ID:200903035420959722

露光条件算出プログラム及び露光条件算出方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-346256
公開番号(公開出願番号):特開2008-159788
出願日: 2006年12月22日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】 デバイスの製造における歩留まりを向上させることができる露光条件の算出プログラムまたは算出方法を提供する。【解決手段】 露光条件を設定する設定ステップと、設定ステップにおいて設定された露光条件下で基板上に投影されるパターン像の寸法を計算する像計算ステップと、像計算ステップにおける計算結果に基づいて、基板上に形成されるパターンのうち配線またはトランジスタとして用いられるパターンの電気的特性を計算する電気的特性計算ステップと、電気的特性計算ステップにおいて計算された電気的特性が基準値を満足するかどうかを判定する判定ステップと、判定ステップにおいて電気的特性が基準値を満足しないと判定した場合に、設定ステップにおいて設定された露光条件を調整して、原版のパターンの像を基板上に投影する際の露光条件を算出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原版のパターンの像を基板上に投影する際の露光条件をコンピュータに算出させる露光条件算出プログラムにおいて、 露光条件を設定する設定ステップと、 前記設定ステップにおいて設定された露光条件下で前記基板上に投影されるパターン像の寸法を計算する像計算ステップと、 前記像計算ステップにおける計算結果に基づいて、前記基板上に形成されるパターンのうち配線またはトランジスタとして用いられるパターンの電気的特性を計算する電気的特性計算ステップと、 前記電気的特性計算ステップにおいて計算された電気的特性が基準値を満足するかどうかを判定する判定ステップと、 前記判定ステップにおいて前記電気的特性が基準値を満足しないと判定した場合に、前記設定ステップにおいて設定された露光条件を調整するステップと を備えることを特徴とする露光条件算出プログラム。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 502G
Fターム (4件):
5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA13 ,  5F046DA30
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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