特許
J-GLOBAL ID：200903034769125237
パターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木内 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-323185
公開番号（公開出願番号）：特開2007-134368
出願日： 2005年11月08日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】モールドと樹脂との密着工程で両者間に空気が残留するのを防止して不良転写を低減することができるパターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法を提供する。【解決手段】まず、樹脂3を塗布したガラス基板4全体を基板載置台6に固定する。次に、モールド1とガラス基板4との間の空間Sを負圧にする。その後、ガラス基板4の中央部を基板載置台6に吸着させる圧力を空間Sの圧力(ガラス基板4をモールド1に吸引する力)より小さくする。次に、ガラス基板4の中央部から周縁部に向かってガラス基板4を基板載置台6に吸着させる力を空間Sの圧力より次第に小さくし、樹脂3をモールド1の全面に密着させる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
パターンが形成された型と、
この型と対向配置され、樹脂又は感光剤が塗布された基板を載置する基板載置台と、
前記基板を前記基板載置台に吸着させる吸着手段と、
前記型と前記基板との間の空間の減圧を行なう減圧手段と、
前記吸着手段で前記基板全体を前記基板載置台に吸着させ、前記減圧手段で前記空間を減圧し、その後、まず前記基板の一部に対する前記吸着手段の吸着力を小さくし、次に前記基板の残部に対する前記吸着手段の吸着力を小さくする制御手段と
を備えていることを特徴とするパターン転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B82B3/00
