特許
J-GLOBAL ID：201003048568723634
極端紫外光源装置および極端紫外光生成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-212884
公開番号（公開出願番号）：特開2010-103499
出願日： 2009年09月15日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：
【課題】高い変換効率を維持しつつ、長期間にわたって安定した信頼性の高い極端紫外光を生成することができる極端紫外光源装置を提供すること。【解決手段】液体金属であるドロップレットDにプリパルスP1を照射した後にメインパルスP2を照射してEUV光を生成する極端紫外光源装置において、プリパルスP1をドロップレットD1に照射しドロップレットD1の一部を残してプリパルスレーザ光照射側の該ドロップレットD1空間外の異なる空間にプリプラズマ1の空間を生成するプリパルスレーザと、プリプラズマ1の空間にメインパルスP2を照射してEUV光を生成するメインパルスレーザと、を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ターゲットにプリパルスレーザ光を照射した後にメインパルスレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置において、
前記プリパルスレーザ光を前記ターゲットに照射し前記ターゲットの一部を残して前記プリパルスレーザ光照射側の該ターゲット空間外の異なる空間にプリプラズマを生成するプリパルスレーザ光源と、
前記プリプラズマに前記メインパルスレーザ光を照射して前記極端紫外光を生成するメインパルスレーザ光源と、
を備えたことを特徴とする極端紫外光源装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AA17
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD05
, 4C092BD06
, 4C092BD18
, 5F046GC03
