アルカリ可溶性シルセスキオキサン及び感光性組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鐘尾宏紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-208740
公開番号（公開出願番号）：特開2010-043030
出願日： 2008年08月13日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。【解決手段】(A)間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式(1):RSiX3(式中、Rは、C1〜C5の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、C2〜C5のアルケニル基、又はアリール基を表し、Xは塩素、臭素又は沃素を表す。)で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)が2000以下のシルセスキオキサンを製造し、(B)得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル-クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)層間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式(1): RSiX3 (1) (式中、Rは、C1〜C5の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、C2〜C5のアルケニル基、又はアリール基を表し、Xは塩素、臭素又は沃素を表す。) で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)が2000以下のシルセスキオキサンを製造し、 (B)得られたシルセスキオキサンをアシル化することによって製造されたアシル化されたシルセスキオキサン。

IPC (6件)：

C07F 7/21 , C08G 77/00 , G03F 7/023 , G03F 7/038 , G03F 7/075 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07F7/21 , C08G77/00 , G03F7/023 , G03F7/038 601 , G03F7/075 511 , H01L21/30 502R

Fターム (49件)：

2H025AA10 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BD55 , 2H025BE00 , 2H025BE01 , 2H025CB33 , 2H025CC04 , 4H049VN01 , 4H049VP10 , 4H049VQ31 , 4H049VQ88 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VS16 , 4H049VS88 , 4H049VT08 , 4H049VT25 , 4H049VU24 , 4H049VV01 , 4H049VV05 , 4H049VV20 , 4H049VW02 , 4J246AA03 , 4J246AB07 , 4J246AB15 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BA140 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB021 , 4J246BB022 , 4J246CA40E , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246FA021 , 4J246FA071 , 4J246FA121 , 4J246FA201 , 4J246FA321 , 4J246FA471 , 4J246GC17 , 4J246GD08 , 4J246GD09 , 4J246HA15

引用特許：

出願人引用 (2件)

層間絶縁膜用感光性樹脂組成物および感光性転写材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-323585 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-182087 出願人：クラリアントインターナショナルリミテッド

審査官引用 (11件)

特開平4-036755
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-131209 出願人：富士写真フイルム株式会社
半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-071641 出願人：日本電信電話株式会社

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