特許
J-GLOBAL ID：201003057416715708

インプリントモールド製造方法およびインプリントモールド

発明者：
相馬 宗尚

相馬 宗尚 について

, 
鈴木 学

鈴木 学 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-059600
公開番号（公開出願番号）：特開2010-137538
出願日： 2009年03月12日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：
【課題】複数の段差を備えたインプリントモールドの製造に好適なインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のインプリントモールド製造方法は、「基板の第1番目の凹パターンが形成された側に、順に、第2番目から第N番目の凹パターンまで形成し、前記第N番目の凹パターンの線幅は第(N-1)番目の凹パターンよりも大きいこと」により、多段構造パターンの中で最も微細なパターンから順に形成することが出来る。このため、線幅の小さい凹パターンを覆うようにレジストを塗布しても、該凹パターンのレジストが埋まる容積が小さいため、平坦となるレジスト膜の厚みを抑制することが出来る。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
N(N=2、3、4、・・・)段の凹パターンを有するインプリントモールドの製造方法であって、 基板に第1番目の凹パターンを形成する工程と、 前記基板の前記第1番目の凹パターンが形成された側に、順に、第2番目から第N番目の凹パターンまで形成する工程と、を備え、 前記第N番目の凹パターンの線幅は第(N-1)番目の凹パターンよりも大きいこと を特徴とするインプリントモールド製造方法。
IPC (3件)：
B29C 33/38 ,  H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (3件)：
B29C33/38 ,  H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B
Fターム (25件)：
4F202AG05 ,  4F202AH36 ,  4F202AH37 ,  4F202AH63 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ07 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD24 ,  4F202CK12 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許：
審査官引用 (6件)
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