スルホニウム塩化合物および感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：和気操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-123771
公開番号（公開出願番号）：特開2007-297284
出願日： 2006年04月27日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】化学増幅型レジストにおける感放射線性酸発生剤として好適な化合物の提供。【解決手段】式(1-a)で表されるカチオンと式(1-c)で表されるアニオンとを有するスルホニウム塩化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1-a)で表されるカチオンと下記式(1-c)で表されるアニオンとを有するスルホニウム塩化合物。

IPC (4件)：

C07C 381/12 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (4件)：

C07C381/12 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (18件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB48

引用特許：

出願人引用 (7件)

ポジ型感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-235290 出願人：東レ株式会社
末端に非共有電子対を有する官能基を導入した高分子化合物、その製造方法及び該高分子化合物を使用したポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-186872 出願人：科学技術振興事業団
微細パターン形成材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-246324 出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社

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審査官引用 (4件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-350227 出願人：ジェイエスアール株式会社
新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-307363 出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-186167 出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社

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