特許
J-GLOBAL ID:201003076030681099

酸化剤濃度の制御方法、該制御方法を用いた水系処理剤の濃度制御方法、並びに水系の殺菌方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邊 薫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-292043
公開番号(公開出願番号):特開2010-115617
出願日: 2008年11月14日
公開日(公表日): 2010年05月27日
要約:
【課題】水系内の酸化剤濃度をより正確に制御する方法を提供すること。【解決手段】水系に浸漬した金属の自然電位を測定する第1自然電位測定工程と、該第1自然電位測定工程において測定した前記自然電位に基づいて、前記水系に酸化剤を発生させる酸化剤発生工程と、を少なくとも行う水系における酸化剤濃度の制御方法を提供する。金属の自然電位は、酸化剤濃度と正の相関性を有するため、金属の自然電位を測定し、この自然電位を一定に保つことで、酸化剤濃度を所定の範囲に制御することが可能である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
水系に浸漬した金属の自然電位を測定する第1自然電位測定工程と、 該第1自然電位測定工程において測定した前記自然電位に基づいて、前記水系に酸化剤を発生させる酸化剤発生工程と、 を少なくとも行う水系における酸化剤濃度の制御方法。
IPC (3件):
C02F 1/50 ,  C02F 1/76 ,  F28F 19/00
FI (14件):
C02F1/50 550L ,  C02F1/76 A ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 531M ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 531N ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 510C ,  C02F1/50 520K ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 520B ,  F28F19/00 511A
Fターム (10件):
4D050AA02 ,  4D050AA08 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB05 ,  4D050BB06 ,  4D050BB07 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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