特許
J-GLOBAL ID:201003087066962380
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-321306
公開番号(公開出願番号):特開2010-145641
出願日: 2008年12月17日
公開日(公表日): 2010年07月01日
要約:
【課題】レジスト材料の溶解性が良好であり、優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるアルコール系有機溶剤を用いたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とが、有機溶剤(S)に溶解してなり、前記有機溶剤(S)がアルコール系有機溶剤であり、前記樹脂成分(A)が、側鎖に、OH基を有する炭素数4〜6の環状エーテルを有する構成単位(a0-1)、側鎖に、OH基を有するアルキレン基または脂肪族環式基を有する構成単位(a0-2)、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とが、有機溶剤(S)に溶解してなり、前記有機溶剤(S)がアルコール系有機溶剤であり、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0-1)、下記一般式(a0-2)で表される構成単位(a0-2)、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/40
, C08F 220/28
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/40 511
, C08F220/28
, H01L21/30 502R
Fターム (47件):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA33
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096EA02
, 2H096EA03
, 2H096EA05
, 2H096EA06
, 2H096EA07
, 2H096EA23
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA05
, 2H096JA04
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03R
, 4J100BA11Q
, 4J100BA22S
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53S
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
引用特許:
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