特許

J-GLOBAL ID：200903079473026059

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 椿 英明
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-028759
公開番号（公開出願番号）：特開2007-206639
出願日： 2006年02月06日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用され、露光ラチチュードに優れ、且つ、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(I)で示される(A)活性光線又は放射線の照射により、特定構造の酸を発生する化合物及び(B)特定のベンズイミダゾール骨格を有する塩基性化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(I)又は(I')で表される酸を発生する化合物及び (B)下記一般式(II)で表される化合物 を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/085 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/085 ,  H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC06 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (8件)

• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-239633   出願人：信越化学工業株式会社
• 欧州特許第1270553号明細書
  
• 国際公開第02-042845号パンフレット
  
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321128   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132546   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 米国特許第2004-0087690号明細書
  
• レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-285775   出願人：日本電気株式会社
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-079113   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (3件)

• 酸発生剤、スルホン酸とその誘導体、含ハロゲンノルボルナン系化合物および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-380168   出願人：JSR株式会社
• 酸発生剤および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-158808   出願人：JSR株式会社
• 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-349976   出願人：富士写真フイルム株式会社