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J-GLOBAL ID:201102205725013370   整理番号:11A0162484

ナノ秒パルスNd:YAGレーザ照射を用いたシリコン表面上へのドット状ナノ突起の作製

Fabrication of Dot-like Nano-protrusions on Silicon Surfaces Using Nanosecond Pulse Nd:YAG Laser Irradiation
著者 (5件):
資料名:
巻:号:ページ: 57-61  発行年: 2010年12月24日 
JST資料番号: L7297A  ISSN: 1883-3365  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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単一ナノ秒パルスNd:YAGレーザ照射方法を用いて,15~20nmの主ナノ突起(NP)の線形アレイを,空気中と低圧力中でSi(100)基板上に作製した。典型的に数キロジュール/m2である低レーザエネルギー密度で,均一サイズのNPを線形配列した。NPの線形アレイが,レーザ偏向ベクトルに垂直に生じ,そのNPの線間隔は,入射レーザ波長と殆ど同じであった。走査型電子顕微鏡(SEM),透過型電子顕微鏡(TEM)とエネルギー分散分光法(EDS)を用いた構造解析と化学分析により,その主NPは,エピタキシャル成長し,酸化膜層で被覆されることを示した。このエピタキシャル成長主NPは,多数回のレーザ照射繰返しを用いることにより,約200nmまたは以上である半球形NPになるまで成長可能であった。これから,入射レーザ角を変えることにより,NPのレーザ誘起配列によるレーザ波長スケールでのナノパターン作製用にナノ秒レーザ照射方法を用いることができることを示した。このレーザ照射方法を用いて,パターン化NPを用いたオプトエレクトロニクス素子を開発することができることを期待する。
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分類 (1件):
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固体デバイス材料 
引用文献 (14件):

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