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J-GLOBAL ID：201102236740431327   整理番号：11A1123562

極端紫外線及び電子ビームリソグラフィー用のポリ(スチレンアクリレート)系化学増幅レジストのラジカルカチオンの動力学

Dynamics of Radical Cation of Poly(styrene acrylate)-Based Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Lithography

著者 (10件)： TAJIMA Yasuharu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TAJIMA Yasuharu (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  OKAMOTO Kazumasa (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OKAMOTO Kazumasa (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIYOSHI Ryoko (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SUMIYOSHI Takashi (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 6,Issue 2  ページ： 06GD03.1-06GD03.3  発行年： 2011年06月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レジスト高分子のラジカルカチオンの動力学への共重合度の依存性を調べた。化学増幅レジスト高分子系におけるラジカルカチオンの動力学を調べた。本研究では,レジストモデル化合物の基礎重合体としてポリ(スチレン-ran-メタクリル酸メチル)[P(S-MMA)]を用いた。低スチレンモル比(<50%)ではP(S-MMA)中のスチレン単位へ正孔が移動する直前にMMAのラジカルカチオンは主に分解されて脱プロトン化した。しかし,スチレンモル比が増すと(>70%),P(S-MMA)の酸収率はPSのそれへ低下した。従ってMMAから多重スチレン単位(n>3)への正孔移動がP(S-MMA)中で生じると示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,  極端紫外線 ,  *フォトリソグラフィー ,  *化学増幅レジスト ,  *カチオンラジカル ,  ポリスチレン ,  重合度 ,  共重合 ,  共重合体 ,  脂肪族カルボン酸 ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボン酸エステル

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： メタクリル酸メチル

引用文献 (22件)：

• 1) H. Ito: Advances in Polymer Science (Springer, Heidelberg, 2005) Vol. 172, p. 37.
• 2) T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 49 (2010) 030001.
• 3) S. Irie, H. Horii, and M. Irie: Macromolecules 13 (1980) 1355.
• 4) S. Tagawa: Int. J. Radiat. Appl. Instrum. C 27 (1986) 455.
• 5) K. Okamoto, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Radiat. Phys. Chem. 60 (2001) 417.

タイトルに関連する用語 (6件)： 極端紫外線 ,  電子ビームリソグラフィー ,  系 ,  化学増幅レジスト ,  ラジカルカチオン ,  動力学