特許
J-GLOBAL ID：201103000387222360
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-089126
公開番号（公開出願番号）：特開2000-282243
特許番号：特許第4120087号
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 外側電極を備えた筒状の反応管、及び反応管の内部に配置される内側電極を具備して構成され、反応管に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスの混合気体を導入すると共に外側電極と内側電極の間に交流電界を印加することにより大気圧下で反応管の内部にグロー放電を発生させ、反応管からプラズマジェットを吹き出すようにするプラズマ処理装置において、反応管に対して内側電極が振れることを防止するための振れ防止スペーサを反応管と内側電極の間に設け、電極本体管内に冷媒供給管を設けて内側電極を形成し、電極本体管と冷媒供給管の間を冷媒供給管にて供給される冷媒の流路部として形成し、電極本体管に対して冷媒供給管が振れることを防止するための振れ防止爪を冷媒供給管の先端に複数個形成すると共に振れ防止爪の一部を放射状に外側に突出させて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
C23C 16/513 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, C23F 4/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/302 ( 200 6.01)
, H05H 1/28 ( 200 6.01)
, H05H 1/38 ( 200 6.01)
C23C 16/513
, B01J 19/08 E
, C23F 4/00 A
, H01L 21/302
, H05H 1/28
, H05H 1/38
