走査露光方法、走査型露光装置及びその製造方法、並びにデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-536099
特許番号：特許第4370608号
出願日： 1999年03月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】露光光によりマスクを照明するとともに、前記マスクと基板とを同期移動させながら、前記マスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して前記基板上の複数のショット領域に順次転写する走査露光方法において、前記複数のショット領域のうち、前記基板の端部に位置する特定のショット領域の露光に際して、該特定のショット領域に隣接する他のショット領域を露光するときに生じるフレアの該特定のショット領域に対する影響を考慮して、該特定のショット領域の前記隣接するショット領域が無い側の端部の露光量を、前記端部以外の部分の露光量と異ならせる露光量調整をして、その特定のショット領域に対する前記パターンの転写を行うことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：