特許
J-GLOBAL ID：201103005828621519

薄膜製造方法および薄膜素子

発明者：
太田 英一

太田 英一 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-267906
公開番号（公開出願番号）：特開2011-114088
出願日： 2009年11月25日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：
【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。【解決手段】薄膜製造方法であって、基板20上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板20を配置する配置工程と、基板20の第1主面20aに光を照射することにより、第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、 前記基板の第1主面に光を照射することにより、前記第1主面上に前記薄膜を形成する形成工程と を有することを特徴とする薄膜製造方法。
IPC (8件)：
H01L 21/316 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24 ,  H01L 41/22 ,  H01L 41/09 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  G02B 6/13
FI (8件)：
H01L21/316 Z ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 A ,  H01L41/22 Z ,  H01L41/08 L ,  H01L41/08 C ,  H01L27/10 444C ,  G02B6/12 M
Fターム (23件)：
2H147EA02A ,  2H147EA02B ,  2H147EA10D ,  2H147EA13C ,  2H147FA06 ,  2H147FA09 ,  2H147FA18 ,  2H147FB01 ,  2H147GA15 ,  5F058BA04 ,  5F058BC03 ,  5F058BD05 ,  5F058BF41 ,  5F083FR00 ,  5F083GA27 ,  5F083JA15 ,  5F083JA36 ,  5F083JA38 ,  5F083JA44 ,  5F083JA45 ,  5F083PR05 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33
引用特許：
審査官引用 (9件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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