特許
J-GLOBAL ID：200903030437848116

金属酸化物膜の製造方法、および、金属酸化物膜の製造装置

発明者：
小堀 裕之

小堀 裕之 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-064768
公開番号（公開出願番号）：特開2007-238393
出願日： 2006年03月09日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】本発明は、基材の形態に関わらず、透明性、緻密性、密着性等に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記金属酸化物膜形成用溶液と金属酸化物膜形成温度以上の温度以上に加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材を上記金属酸化物膜が形成される成膜面側から加熱することを特徴とする、金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された前記金属酸化物膜形成用溶液と金属酸化物膜形成温度以上の温度以上に加熱した基材とを接触させることにより、前記基材上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、 前記基材を、前記金属酸化物膜が形成される成膜面側から加熱することを特徴とする、金属酸化物膜の製造方法。
IPC (6件)：
C01B 13/34 ,  C01F 7/02 ,  H01L 21/316 ,  C23C 18/12 ,  H01L 23/522 ,  H01L 21/768
FI (6件)：
C01B13/34 ,  C01F7/02 A ,  H01L21/316 B ,  C23C18/12 ,  H01L21/90 K ,  H01L21/90 Q
Fターム (30件)：
4G042DA01 ,  4G042DB10 ,  4G042DB22 ,  4G042DD02 ,  4G042DE09 ,  4G076AA02 ,  4G076AB13 ,  4G076BA11 ,  4G076BA42 ,  4G076BD02 ,  4G076CA10 ,  4K022AA01 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06 ,  4K022DB02 ,  4K022DB19 ,  4K022DB24 ,  5F033GG00 ,  5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033RR03 ,  5F033SS21 ,  5F033XX12 ,  5F058BA20 ,  5F058BB05 ,  5F058BB06 ,  5F058BB07 ,  5F058BC03 ,  5F058BD05 ,  5F058BF41
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (12件)
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