特許
J-GLOBAL ID：200903050402340579

洗浄装置、この洗浄装置を用いた洗浄システム、及び被洗浄基板の洗浄方法

発明者：
大蔵 領一

大蔵 領一 について

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吉田 達朗

吉田 達朗 について

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瀧川 喜重

瀧川 喜重 について

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中村 修

中村 修 について


出願人/特許権者：
リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社

リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社 について


代理人 (3件)： 清水 善廣 ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-291583
公開番号（公開出願番号）：特開2007-088398
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】精密基板の洗浄を行う洗浄装置において、汚染因子再付着防止、自然酸化形成の防止、ウォータマーク防止が可能な洗浄装置を提供する。【解決手段】被洗浄基板2を容器3内に配置し、容器3内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4と雰囲気を制御するガス供給手段5およびガス排気手段6、7を配置した洗浄装置1において、被洗浄面に対向した部位からガスを均一に供給するガス供給手段5、筒状固定軸16、流体軸受け17および回転支持部材18からなる回転保持機構にガスを供給するガス供給手段21、排水機構にガスを排気するガス排気手段7、洗浄液噴射時の雰囲気を制御するガスを供給するガス供給手段31のいずれか一つ以上の手段を具備する。洗浄装置1内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4は、任意のタイミングで計測可能であり、引火性成分、可燃性成分、または支燃性成分のいずれか1つ以上の成分を検出可能なものとする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
半導体基板、液晶ガラス基板、磁気ディスクなどの被洗浄基板を容器内にて洗浄する洗浄装置であって、前記容器内の雰囲気を制御する雰囲気制御手段と、前記容器内の雰囲気を計測する雰囲気成分計測器とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/683 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/00 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133
FI (11件)：
H01L21/304 648Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651K ,  H01L21/304 651A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/68 N ,  H01L21/68 A ,  B65G49/00 C ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500
Fターム (28件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA28 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  2H090JD08 ,  5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031HA09 ,  5F031HA12 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031HA80 ,  5F031LA01 ,  5F031LA07 ,  5F031LA13 ,  5F031MA04 ,  5F031MA23 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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