特許
J-GLOBAL ID：201103009479890065

高度清浄装置,局所清浄システム及びオゾン分解フィルタとその製造方法

発明者：
佐藤 克己

佐藤 克己 について

, 
阪田 総一郎

阪田 総一郎 について

, 
高橋 秀人

高橋 秀人 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  和田 憲治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046822
特許番号：特許第4166909号
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】区画された空間内に清浄な空気を循環供給させる空気の循環路が形成された高度清浄装置であって, 前記循環路に,送風手段と,高性能フィルタと,酸化マンガンを担持したオゾン分解フィルタを備え, 前記オゾン分解フィルタの上流に,酸化マンガンのオゾン分解性能を劣化させるガス状汚染物を除去するためのガス除去用フィルタを設けたことを特徴とする,高度清浄装置。
IPC (4件)：
B01D 46/00 ( 200 6.01) ,  F24F 7/06 ( 200 6.01) ,  H01L 21/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (4件)：
B01D 46/00 F ,  F24F 7/06 C ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/304 648 L
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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