特許

J-GLOBAL ID：201103012261664684

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 土村 智孝 ,  高橋 秀知 ,  三枝 浩
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (19件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-205021
公開番号（公開出願番号）：特開2011-053624
出願日： 2009年09月04日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式(I)により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。【化1】【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 12/14 ,  C08F 20/38 ,  C08F 22/24 ,  C08F 22/36

FI (7件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F12/14 ,  C08F20/38 ,  C08F22/24 ,  C08F22/36

Fターム (88件)：

2H125AF17P ,  2H125AF21P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AH05 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ22Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM12P ,  2H125AM23P ,  2H125AM32P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL39P ,  4J100AL74P ,  4J100AM21P ,  4J100AM39P ,  4J100AM47P ,  4J100AR09Q ,  4J100AT08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA08P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA34P ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BA55P ,  4J100BB03Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB10P ,  4J100BB11P ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC22P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48Q ,  4J100BC49P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-275241   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-067010   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-293188   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-233045   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-263943   出願人：大阪有機化学工業株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-240600   出願人：富士写真フイルム株式会社