特許
J-GLOBAL ID：201103013102737901
光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171096
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004858
特許番号：特許第3386113号
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コアとクラッドが、下記化学式(1)で表されるフルオレン骨格を含有するエポキシアクリレートから選択される同一の材料を用いて形成されており、該コアの形成時よりクラッド形成時に多くの露光量照射をすることにより、クラッドの屈折率がコアの屈折率より小さくなるように形成されていることを特徴とする光導波路。;;化1::〔化学式(1)において、Xは、下記化学式(2)で表される化学構造;;化2::(化学式(2)中、ベンゼン環の*は、化学式(1)における結合位置を示し、該結合位置*は、該ベンゼン環とフルオレン骨格との結合位置に対して、それぞれ独立にオルト、メタ、パラ位のいずれであってもよい。R1〜R16はそれぞれ独立に、水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリールまたはアラルキルのいずれかを示す。)を示す。Yは水素またはメチル基を示す。またnは、0以上の整数を示す。〕
IPC (4件)：
G02B 6/13
, C08F 299/02
, C08G 59/18
, G02B 6/12
C08F 299/02
, C08G 59/18
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (7件)
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