動的混合ガス送出装置及び方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295495
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223431
特許番号：特許第3329775号
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数の流体を処理して配合ガス混合物を作り、そしてこの配合ガス混合物を分配母管に供給し、この分配母管から前記配合ガス混合物を少なくとも1つの化学気相成長機器又は同様な処理機器に送出する方法であって、第1の流体を提供すること、前記第1の流体を、この第1の流体の少なくともいくらかの部分が蒸気になる温度に加熱すること、前記第1の流体の蒸気部分を過熱して、前記少なくとも1つの機器に送出される前記配合ガス混合物の凝縮を避けるのに十分な温度にすること、第2の流体を提供すること、前記第2の流体を加熱して、過熱された前記第1の流体の蒸気部分がこの第2の流体に接触するときに、この過熱された蒸気部分が凝縮するのを避けるのに十分な温度にすること、加熱された前記第2の流体と過熱された前記第1の流体の蒸気部分とを組み合わせて、化学気相成長、エピタキシャル層成長、又は同様な処理のために所望とされる物理的及び化学的性質を持つ配合ガス混合物を作ること、前記第1の流体とも前記第2の流体とも前記配合ガス混合物とも反応しない第3の流体を提供すること、前記第3の流体を加熱して、前記少なくとも1つの機器に送出される前記配合ガス混合物の凝縮を避けるのに十分な温度にすること、所定量の加熱された前記第3の流体を気相で前記配合ガス混合物と組み合わせ、それによって前記配合ガス混合物の所望の物理的及び化学的性質を維持するようにして前記第1と第2の流体の所望のモル比を維持し、またそれによって前記分配母管における前記配合ガス混合物の凝縮を避けること、並びに前記配合ガス混合物を分配母管に送出して、この分配母管からこの配合ガス混合物を前記少なくとも1つの機器に送出すること、を含む方法であって、複数の前記流体及び配合ガス混合物を、前記分配母管の上流で定期的にパージする、配合ガス混合物を少なくと1つの化学気相成長機器又は同様な処理機器に送出する方法。

IPC (8件)：

H01L 21/205 , B01F 3/02 , B01F 15/04 , B01J 4/00 102 , B01J 7/02 , C23C 16/448 , C23C 16/455 , C30B 29/06 504

FI (8件)：

H01L 21/205 , B01F 3/02 , B01F 15/04 A , B01J 4/00 102 , B01J 7/02 Z , C23C 16/448 , C23C 16/455 , C30B 29/06 504 C

引用特許：

審査官引用 (8件)

エピタキシャル成長用ガスの供給方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-130595 出願人：三菱マテリアルポリシリコン株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
化学気相堆積装置及び化学気相堆積方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-092539 出願人：株式会社村田製作所
成膜処理室への液体材料供給装置、その使用方法及びその配管構造
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-170082 出願人：東京エレクトロン株式会社

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