特許
J-GLOBAL ID:201103014918319365
細胞培養用パターニング基板およびその製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-003011
公開番号(公開出願番号):特開2011-067223
出願日: 2011年01月11日
公開日(公表日): 2011年04月07日
要約:
【課題】本発明は、基材上に目的とする形状に細胞を培養するために用いられる細胞培養用パターニング基板、およびその製造方法を提供することを主目的としている。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、凸部を有する基材と、前記基材表面に形成された細胞を培養する領域である細胞培養領域とを有し、前記細胞培養領域が、凸部を有する基材の前記凸部によって区画されていることを特徴とする細胞培養用パターニング基板を提供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
凸部を有する基材と、前記基材表面に形成された細胞を培養する領域である細胞培養領域とを有し、前記細胞培養領域が、凸部を有する基材の前記凸部によって区画され、
前記凸部を有する領域は、細胞と接着阻害性を有する細胞接着阻害部であり、前記細胞培養領域は、細胞と接着性を有する細胞接着部であり、
前記基材上に、少なくとも光触媒および、細胞と接着することを阻害する細胞接着阻害性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着阻害材料を含有する光触媒含有細胞接着阻害層が形成されており、前記細胞接着部は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、前記細胞接着阻害材料が分解または変性されていることを特徴とする細胞培養用パターニング基板。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (4件):
4B029AA02
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029DF10
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開平2-245181号公報
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特開平3-7576号公報
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細胞培養用基板とその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-357910
出願人:日本電気株式会社
審査官引用 (10件)
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引用文献:
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