特許
J-GLOBAL ID：201103015803737933
真空プロセッサ中の誘電体工作物のための静電デチャッキング方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-572927
特許番号：特許第4698025号
出願日： 1999年09月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基準電位にある金属壁と、絶縁体で覆われた電極をもつ静電チャックとを有する真空プラズマ・プロセッサ・チャンバ中で誘電体工作物を加工する方法であって、前記電極と前記工作物との間に前記絶縁体が介在するように前記工作物を前記チャックに取付けることと、前記工作物が前記チャック上にある間に前記電極にDCチャッキング電圧を印加することと、前記チャンバ中で前記工作物をプラズマで加工することとを含み、プラズマは、プラズマに露出される前記工作物の前面が前記基準電位とほぼ同じ電位になるように十分に低い電気インピーダンスを有し、プラズマに露出されない前記工作物の裏面に伝熱流体を供給することによって、前記工作物がプラズマによって加工される間に前記工作物の温度を制御することを含み、前記伝熱流体は、前記工作物の前記裏面に力を加え、その力が前記工作物を前記チャックから離す作用を生ずるように方向付けられていることにより、前記工作物を前記チャックに対して移動させる傾向を有し、前記チャッキング電圧が前記工作物に対してチャッキング力を生じて前記工作物を前記チャックに対して移動させようとする前記流体の傾向を克服し、前記工作物および前記絶縁体の組合せは抵抗率を含む決定された受動的電気特性を有し、また、前記工作物の抵抗率が少なくとも1×108Ω・mであり、これにより、チャッキング電圧によって供給されるチャッキング電荷が前記誘電体工作物の加工中に前記工作物の露出される面から前記工作物の露出されない面まで前記工作物の中を通って徐々に伝導され、その結果、前記工作物の加工中に一定のDCチャッキング電圧が前記電極に印加される場合に前記工作物へのチャッキング力の増大を生じる傾向があり、該工作物の前記チャックからのデチャッキングを容易にするための複数のタイプの異なるデチャッキング進行ステップのうちから、前記決定された受動的電気特性に基づいて少なくとも1つのデチャッキング進行ステップを選択し、該選択された少なくとも1つのデチャッキング進行ステップを実行することを含む方法。
IPC (4件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, B23Q 3/15 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
H01L 21/68 R
, B23Q 3/15 D
, H01L 21/205
, H01L 21/302 101 G
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (13件)
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