特許
J-GLOBAL ID：201103019889516840
複合荷電粒子線装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
平木 祐輔
, 関谷 三男
, 渡辺 敏章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-072604
公開番号（公開出願番号）：特開2011-204570
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：
【課題】FIB加工における加工効率を低下させずにリアルタイムでSEM観察を可能にする技術を提供する。【解決手段】本発明では、FIBカラムとSEMカラムを備える複合荷電粒子線装置に、電子ビームを試料に照射したときに発生する後方散乱電子が試料室の構造物に衝突することによって放出される二次電子(本明細書では、三次電子という)を検出するSE3検出器を設けている。そして、この三次電子を用いてSEM像を生成し、そのSEM像によって、イオンビームによる加工の状態を観察することが可能なようになっている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオンビームを照射するイオンビームカラムと、
電子ビームを照射する電子ビームカラムと、
前記イオンビームカラム及び電子ビームが取り付けられた試料室と、
試料に照射された前記電子ビームによって誘起された後方散乱電子が、前記試料室の内部に存在する構造物に衝突することによって放出された二次電子である三次電子を検出する三次電子検出器と、
前記試料に対して前記イオンビームを照射中に、前記検出された三次電子に基づいて画像を生成して表示装置に表示する制御装置と、
を備えることを特徴とする複合荷電粒子線装置。
IPC (3件)：
H01J 37/244
, H01J 37/317
, H01J 37/28
H01J37/244
, H01J37/317 D
, H01J37/28 B
5C033NN01
, 5C033NN02
, 5C033NN10
, 5C033NP01
, 5C033NP06
, 5C033NP08
, 5C033UU01
, 5C033UU04
, 5C033UU06
, 5C033UU10
, 5C034DD02
, 5C034DD09
