特許
J-GLOBAL ID：200903000752562232
集束イオンビーム装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-204398
公開番号（公開出願番号）：特開2008-034172
出願日： 2006年07月27日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
【課題】イオンビーム光軸上に磁場が存在し更に磁場が変動する場合でも、試料上でイオンビームの同位体分離を生じさせることなく、磁場がない場合のビームスポット位置へ高精度に集束させることができる集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】集束イオンビーム装置において、イオンビーム3の光軸上に外部磁場によるイオンビーム3の偏向を補正する補正磁場発生部10を備え、補正磁場発生部10は、寸法dの間隙を介して隣接する2つのポールピース26a,26b及び26c,26dをそれぞれ1つのポールピース対26A,26Bとして、ポールピース対26A,26Bを寸法g(>d)の間隙を介しイオンビーム3の光軸を挟んで対向配置し、ポールピース26a〜26dにそれぞれ巻いた内側コイル29、及びこれら内側コイル29を包囲するようにしてポールピース対26A,26Bにそれぞれ巻いた外側コイル30を有している。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
イオンビームを試料上に集束させて前記試料の加工或いは観察の少なくとも一方を行う集束イオンビーム装置において、
前記イオンビームの光軸上に、集束イオンビーム光学系の外からの外部磁場の影響による前記イオンビームの偏向を補正する補正磁場を発生させる補正磁場発生部を備え、
前記補正磁場発生部は、寸法dの間隙を介して隣接する2つのポールピースを1つのポールピース対として、2つのポールピース対を寸法dよりも広い寸法gの間隙を介し前記イオンビームの光軸を挟んで対向配置し、
さらに、前記4つのポールピースにそれぞれ巻いた内側コイル、及びこれら内側コイルを包囲するようにして前記2つのポールピース対にそれぞれ巻いた外側コイルを有している
ことを特徴とする集束イオンビーム装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
出願人引用 (9件)
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荷電粒子装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-140005
出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社
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複合荷電粒子ビーム装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-137120
出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社
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微細加工方法およびその装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-084361
出願人：株式会社日立製作所
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審査官引用 (8件)
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