低酸素高純度チタン材の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森道雄 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115085
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309833
特許番号：特許第3129709号
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】クロール法によって製造されたスポンジチタンの底部から厚さが塊高さの25%以上の部分と頂部から厚さが塊高さの10%以上の部分とを切断除去し、かつ円筒状塊の円周部から厚さが塊直径の18%以上の円周部分を切断除去して、スポンジチタン塊重量の30%未満に相当する中心部分を採取して高純度チタン材を製造する方法であって、前記スポンジチタンの中心部分の温度が100°C以下になるまで冷却した後、スポンジチタンの中心部分を切断することを特徴とする酸素濃度が200ppm以下で、Fe、Ni、Cr、AlおよびSiを10ppm以下並びにNaおよびKを0.1ppm以下含有する高純度チタン材の製造方法。

IPC (1件)：