特許
J-GLOBAL ID：201103023530074726
転写装置、型、および、デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤元 亮輔
, 水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-225103
公開番号（公開出願番号）：特開2011-061214
出願日： 2010年10月04日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：
【課題】 離型に有利な転写装置を提供する。【解決手段】 転写装置は、型101を接触させることにより基板102上の被転写物にパターンを転写する。該装置は、基板を保持する基板ステージ402と、型を保持する型ステージ301と、基板ステージと型ステージとの相対的な位置決めを行う駆動手段302と、制御手段とを有する。また、型ステージは、型のパターン領域の外側にある型の所定領域が被転写物からの離型が開始する開始領域となるように被転写物に接触している型の所定領域を加熱する加熱手段(501〜503,603〜606)を含む。また、制御手段は、加熱手段により開始領域で離型が開始され、その状態から駆動手段により離型が行われるように、加熱手段および駆動手段を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
型を接触させることにより基板上の被転写物にパターンを転写する転写装置であって、
前記基板を保持する基板ステージと、
前記型を保持する型ステージと、
前記基板ステージと前記型ステージとの相対的な位置決めを行う駆動手段と、
制御手段と、を有し、
前記型ステージは、前記型のパターン領域の外側にある前記型の所定領域が前記被転写物からの離型が開始する開始領域となるように前記被転写物に接触している前記型の前記所定領域を加熱する加熱手段を含み、
前記制御手段は、前記加熱手段により前記開始領域で前記離型が開始され、その状態から前記駆動手段により前記離型が行われるように、前記加熱手段および前記駆動手段を制御する、
ことを特徴とする転写装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, B81C 99/00
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
, B81C99/00
3C081CA37
, 3C081DA10
, 4F209AF01
, 4F209AF05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN03
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 4F209PQ14
, 5F046AA28
