露光装置及び半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大西健治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107456
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299274
特許番号：特許第3526780号
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】照明光学系からの光を絞って細長いスリット光とするスリットと、転写パターンを有し、前記スリット光を受け取り前記転写パターンに対応した光にするマスクを、光軸と垂直方向に移動自在に支持するマスクステージと、前記マスクからの光を縮小する縮小投影レンズと、前記縮小投影レンズからの光を拡張するビームエキスパンダと、前記ビームエキスパンダからの光を半導体球上に集光させる集光ミラーと、前記半導体球を回転可能に支持する手段とを有する露光装置。

IPC (2件)：