特許
J-GLOBAL ID:201103027955097989

アクティブマトリクス基板の欠陥修正方法及び液晶パネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-033500
公開番号(公開出願番号):特開2000-231121
特許番号:特許第3386735号
出願日: 1999年02月10日
公開日(公表日): 2000年08月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の走査配線及び複数の信号配線が絶縁膜を介して互いに交差するように設けられ、両配線の交差部近傍にスイッチング素子が設けられ、該走査配線、該信号配線及び該スイッチング素子を覆うように設けられた層間絶縁膜上に画素電極が設けられているアクティブマトリクス基板の短絡欠陥を修正する方法であって、該層間絶縁膜に任意波長のレーザ光を照射して修正部上の層間絶縁膜部分を除去する工程と、欠陥部または該層間絶縁膜の除去部の下層にある配線部に任意波長のレーザ光を照射して該欠陥部を除去するかまたは該配線部を切断する工程とを含むアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法。
IPC (4件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/786
FI (4件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/78
引用特許:
審査官引用 (17件)
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