特許
J-GLOBAL ID：201103029861529543
レジスト下層膜用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-352989
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166490
特許番号：特許第4320883号
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(A)下記一般式(1)で表される化合物を
Si(OR1)4・・・・・(1)
(R1は1価の有機基を示す。)
下記一般式(2)で表される金属のキレート化合物
R2aM(OR3)b-a ・・・・・(2)
(R2はキレート剤、Mは金属原子、R3は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、bは金属Mの原子価、aは1〜bの整数を表す。)および/または酸触媒と水の存在下で反応させた加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、
(B)プロピレングリコールモノアルキルエーテルならびに
(C)紫外光照射および/または加熱により酸を発生する化合物
を含有し、かつ、組成物全量100重量部に対して、水を0.2〜10重量部含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物。
当該レジスト下層膜用組成物において、(A)成分および必要に応じてさらに加えた下記(D)成分との合計量に対する(C)成分の使用割合は、(A)成分および(D)成分の合計100重量部(完全加水分解縮合換算)に対して、1〜15重量部である。
また、(D)成分は、下記一般式(3)で表される化合物を
R4cSi(OR5)4-c ・・・・・(3)
(R4は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R5は1価の有機基を示し、cは1〜2の整数を表す。)上記一般式(2)で表される金属のキレート化合物および/または酸触媒と水の存在下で反応させた加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方である。
IPC (2件)：
G03F 7/11 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/11 503
, H01L 21/30 574
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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