特許
J-GLOBAL ID：201103032119993493
研磨装置及びその方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 俊夫
, 水野 洋美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-329074
公開番号（公開出願番号）：特開2001-138211
特許番号：特許第3767787号
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の被研磨面と研磨部材とを相対的に摺動させながら、化学的な研磨作用を有する研磨液を研磨部材の研磨面に供給し、前記基板の被研磨面を構成する金属を研磨する研磨装置において、
基板を研磨した後の前記研磨部材の研磨面と相対的に摺動し、前記研磨部材の研磨面を擦り削り突起群を形成することにより研磨能力を回復させる研磨面仕上げ手段と、
この研磨面仕上げ手段と摺動している前記研磨部材の研磨面に、前記金属と研磨液との反応生成物を溶解させる薬液を供給する薬液供給手段と、
前記研磨部材の研磨面に、加圧ポンプにて加圧され圧力調整手段により圧力が調整された洗浄液を吐出ノズルから供給して、前記研磨部材の研磨面上の前記薬液を除去するための洗浄手段と、を備えることを特徴とする研磨装置。
IPC (2件)：
B24B 37/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
B24B 37/00 A
, H01L 21/304 622 M
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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