特許
J-GLOBAL ID：201103032993076085
半導体基板用洗浄液及び洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-285416
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144064
特許番号：特許第3891769号
出願日： 2000年09月20日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 半導体基板から汚染物質を除去するための洗浄液であって、
前記汚染物質は、前記半導体基板上に形成され不純物のドープされた絶縁膜内に開口部を形成する工程中に発生した汚染物質であり、
前記洗浄液は、
フッ化水素0.08〜0.1重量%と、
フッ化アンモニウム0.5〜0.6重量%と、
過酸化水素24.9〜49.7重量%と、
水49.6〜74.5重量%と、
を含むことを特徴とする半導体基板用洗浄液。
IPC (6件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, C11D 7/08 ( 200 6.01)
, C11D 7/10 ( 200 6.01)
, C11D 7/18 ( 200 6.01)
, C11D 7/60 ( 200 6.01)
, C11D 17/08 ( 200 6.01)
H01L 21/304 647 Z
, C11D 7/08
, C11D 7/10
, C11D 7/18
, C11D 7/60
, C11D 17/08
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
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