特許
J-GLOBAL ID:201103035669008785

高分子量反応生成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江藤 聡明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-589576
特許番号:特許第4632332号
出願日: 1999年12月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 以下の工程(i):即ち、 i)少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び下式: [但し、R1〜R4が相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR1〜R4の2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す]で表される化合物(I)の存在下、且つ少なくとも1種の塩基の存在下に、水性相において、下記のモノマー: メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート(全ての異性体)、ブチルメタクリレート(全ての異性体)、2-エチルヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、メタクリル酸、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メタクリロニトリル、α-メチルスチレン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(全ての異性体)、アクリル酸ブチル(全ての異性体)、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリロニトリル、スチレン、グリシジルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルメタクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリエチレングリコールメタクリレート、無水イタコン酸、イタコン酸、グリシジルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルアクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルアクリレート、トリエチレングリコールアクリレート、メタクリルアミド、N-tert-ブチルメタクリルアミド、N-n-ブチルメタクリルアミド、N-メチロールメタクリルアミド、N-エチロールメタクリルアミド、N-tert-ブチルアクリルアミド、N-ブチルアクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N-エチロールアクリルアミド、ビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノスチレン(全ての異性体)、α-メチルビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノ-α-メチルスチレン(全ての異性体)、p-メチルスチレン、p-ビニルベンゼンスルホン酸、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、トリブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジメトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレート、トリブトキシシリルプロピルアクリレート、ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジメトキシシリルプロピルアクリレート、ジエトキシシリルプロピルアクリレート、ジブトキシシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルアクリレート、酢酸ビニル、酪酸ビニル、 塩化ビニル、フッ化ビニル及び臭化ビニル; から選択される少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)を含む反応混合物をフリーラジカル条件下で反応させる工程、を含む反応生成物(A)の製造方法。
IPC (3件):
C08F 2/44 ( 200 6.01) ,  C08F 212/32 ( 200 6.01) ,  C08F 257/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
C08F 2/44 C ,  C08F 212/32 ,  C08F 257/00
引用特許:
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (13件)
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