塩、酸発生剤、重合体及びフォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-155693
公開番号（公開出願番号）：特開2011-037836
出願日： 2010年07月08日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

【課題】高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。【解決手段】式(I-P)で表される塩。[式(I-P)中、Q1及びQ2は、独立して、F又はペルフルオロアルキル基;X1は、単結合又は置換基を有していてもよい飽和炭化水素基表す。該基に含まれる-CH2-基は-O-又は-CO-基で置換されていてもよい。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I-P)で表される塩。

IPC (8件)：

C07C 381/12 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 309/17 , C07C 309/12 , C09K 3/00 , C08F 20/12 , H01L 21/027

FI (8件)：

C07C381/12 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C309/17 , C07C309/12 , C09K3/00 K , C08F20/12 , H01L21/30 502R

Fターム (49件)：

2H125AF15P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB81 , 4H006AB92 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA11S , 4J100BA15P , 4J100BA53P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC43P , 4J100BC53S , 4J100CA01 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA28 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100GC07 , 4J100GC16 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (8件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-316385 出願人：JSR株式会社
高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-090588 出願人：信越化学工業株式会社
ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-090642 出願人：信越化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る