特許
J-GLOBAL ID：201103047112616195
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-049549
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240625
特許番号：特許第4275284号
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(Ia)
(式中、R1、Ra、Rb及びRcは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、X1、X2及びX3は-CH2-又は-CO-O-を示す。X1、X2及びX3のうち少なくとも1つは-CO-O-である)
で表されるモノマー単位と、下記式(Ib)
(式中、Rd、Re、Rf及びRgは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。m、p及びqはそれぞれ0〜2の整数を示す)
で表されるモノマー単位、下記式(IIf)、(IIg)
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R13、R14及びR15は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。R16はt-ブチル基、2-テトラヒドロフラニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-オキセパニル基を示す)
で表されるモノマー単位、下記式(IIIa)、(IIIb)、(IIIg)
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R17及びR18は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、R19はヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。R20、R21、R22、R23及びR24は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。R29は水素原子又はヒドロキシル基を示す)
で表されるモノマー単位からなる群より選択された少なくとも1種のモノマー単位とを含むフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (7件)：
C08F 220/28 ( 200 6.01)
, C08F 220/06 ( 200 6.01)
, C08F 220/18 ( 200 6.01)
, C08F 222/06 ( 200 6.01)
, C08F 232/08 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
C08F 220/28
, C08F 220/06
, C08F 220/18
, C08F 222/06
, C08F 232/08
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (3件)
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