特許
J-GLOBAL ID：201103047485820396
化学機械研磨用水系分散体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 清路
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231669
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057351
特許番号：特許第4352519号
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 重合体粒子及び水を含有し、該重合体粒子は架橋構造を有する重合体により構成され、該重合体は、その分子中に、被研磨面を形成する金属と反応し得るアミノ基を有することを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
, C09K 3/14 ( 200 6.01)
H01L 21/304 622 D
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 K
, C09K 3/14 550 C
