特許
J-GLOBAL ID：201103048119663357
スパッタ成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 和憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-120174
公開番号（公開出願番号）：特開2002-317265
特許番号：特許第3732748号
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 成膜対象となる下地基板の保持面が表裏両面に設けられ、真空槽内で水平な支軸により回転自在に支持された円板状のホルダプレートと、
前記支軸の回りにホルダプレートを回転させる回転機構と、
ホルダプレートの表面及び裏面に対して長手方向が平行となるように真空槽内に配置された少なくとも一対の円柱状のターゲットブロックと、
ホルダプレートの外周でホルダプレートの表裏面とそれぞれ平行に、かつ前記各々のターゲットブロックの中心からの見込み角度が35度以内となるようにそれぞれ個別のモニタガラスを着脱自在に保持するモニタガラスホルダと、
ホルダプレートの表面側と裏面側とからモニタガラスのそれぞれに垂直に測定光を照射し、その垂直反射光に基づいて成膜時の膜厚を個別に監視する一対の膜厚監視装置とを備え、
ホルダプレートを前記支軸の回りに垂直姿勢のまま回転させるとともに、ホルダプレートの表面及び裏面と、これらの面にそれぞれ対面して配置された前記各々のターゲットブロックとの間のグロー放電により、ホルダプレートの表面及び裏面に保持された下地基板とそれぞれのモニタガラスに同時にスパッタ成膜が行われるようにしたことを特徴とするスパッタ成膜装置。
IPC (2件)：
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C23C 14/54 ( 200 6.01)
C23C 14/34 J
, C23C 14/54 E
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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