特許
J-GLOBAL ID：201103052631332114

表示装置及びその作製方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-336249
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143874
特許番号：特許第4472073号
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 絶縁膜と、 前記絶縁膜上及び該絶縁膜に形成されたコンタクトホールに設けられた第1の電極と、 前記第1の電極上に設けられた第2の電極、発光層及び第3の電極とを有し、 前記絶縁膜上及び前記コンタクトホール内において、前記第1の電極の表面はテクスチャ構造であり、 前記テクスチャ構造における起伏部の間隔は、0.3μm以上0.8μm以下であることを特徴とする表示装置。
IPC (4件)：
H05B 33/26 ( 200 6.01) ,  G09F 9/30 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H05B 33/26 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 C ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM