特許
J-GLOBAL ID：201103053663892576
液体噴射ヘッドの製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
栗原 浩之
, 村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-000828
公開番号（公開出願番号）：特開2011-142143
出願日： 2010年01月05日
公開日（公表日）： 2011年07月21日
要約：
【課題】鉛を含有せず、絶縁性が高くリーク電流の発生を抑制することができる圧電素子を有する液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】ノズル開口21に連通する圧力発生室12と、圧力発生室12に圧力変化を生じさせる圧電素子300と、を有する液体噴射ヘッドの製造方法であって、酸化チタン膜61を形成する工程と、酸化チタン膜61上に白金膜62を形成する工程と、白金膜62上にビスマス、ランタン、鉄及びマンガンを含む圧電体前駆体膜を形成する工程と、圧電体前駆体膜を不活性ガス雰囲気中で焼成し結晶化することにより圧電体層70を形成する工程と、圧電体層70上に電極80を形成する工程とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ノズル開口に連通する圧力発生室と、前記圧力発生室に圧力変化を生じさせる圧電素子と、を有する液体噴射ヘッドの製造方法であって、
チタンからなるチタン膜を形成する工程と、
前記チタン膜上に白金からなる白金膜を形成する工程と、
前記白金膜上にビスマス、ランタン、鉄及びマンガンを含む圧電体前駆体膜を形成する工程と、
前記圧電体前駆体膜を不活性ガス雰囲気中で焼成し、結晶化することにより圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層上に電極を形成する工程と、を有することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
IPC (7件)：
H01L 41/22
, B41J 2/16
, H01L 41/09
, H01L 41/18
, H01L 41/24
, H03H 9/17
, H03H 3/02
H01L41/22 Z
, B41J3/04 103H
, H01L41/08 C
, H01L41/08 L
, H01L41/18 101Z
, H01L41/22 A
, H01L41/08 J
, H03H9/17 A
, H03H3/02 B
2C057AF67
, 2C057AG44
, 2C057AP14
, 2C057AP52
, 2C057AP57
, 2C057BA04
, 2C057BA14
, 4F041AB01
, 4F041BA10
, 4F041BA13
, 4F041BA17
, 5J108AA06
, 5J108BB05
, 5J108CC04
, 5J108EE03
, 5J108EE05
, 5J108EE13
, 5J108FF03
, 5J108FF05
, 5J108GG03
, 5J108KK02
, 5J108KK07
, 5J108MM08
審査官引用 (3件)
-
Effects of SrRuO3 buffer layer thickness on multiferroic (Bi 0.90 La 0.10) (Fe 0.95 Mn0.05) O3 thin
-
Observation of structural transitions and Jahn-Teller distortion in LaMnO3-doped BiFeO3 thin films
-
High-Frequency Dielectric Study Of MultiferroicBi0.9La0.1Fe0.9Mn0.1O3 Thin Films
前のページに戻る
