特許
J-GLOBAL ID：201103055122602268
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
浜野 孝雄
, 平井 輝一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-249904
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077091
特許番号：特許第4576011号
出願日： 1999年09月03日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一つの真空チャンバーと、該真空チャンバー内に設けられた複数の高周波電極と、該複数の高周波電極に接続されこれらの高周波電極を励起させる共通の高周波電源とを備え、該真空チャンバー内に発生されたプラズマを利用して所定の処理を行うようにしたプラズマ処理装置において、
複数の高周波電極に対向する一つの対向電極と、該対向電極と複数の高周波電極の間との間にのびて複数の高周波電極の各々のプラズマ生成空間を画定する仕切り部材を設け、
各仕切り部材が、開口率70〜20%、各開口の径3mm以下のメッシュまたはパンチングメタルから構成され、
前記一つの対向電極が、前記真空チャンバーの長手方向中央軸線位置に沿って配置されており、前記複数の高周波電極が前記対向電極を挟んで両側に設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 B
, H05H 1/46 M
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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