特許
J-GLOBAL ID:201103059079875196

被処理体の加熱処理装置及びその排気方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-068846
公開番号(公開出願番号):特開2002-270493
特許番号:特許第4618912号
出願日: 2001年03月12日
公開日(公表日): 2002年09月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 被処理体の加熱処理室を排気する排気手段を有する加熱処理装置であって、 前記排気手段は、予め設定された排気圧あるいは予めプログラミングされた排気圧に応じて、前記加熱処理室の排気圧を自動調整可能であり、 前記被処理体の加熱処理中は前記加熱処理室から直接排気を行わず、前記加熱処理室の側面に設けられた開閉シャッタを介して、前記加熱処理室と前記加熱処理室の外周囲を覆う筐体との間で形成された排気路の前記加熱処理室の上方の排気孔より前記加熱処理室外で排気を行うようにした、 ことを特徴とする被処理体の加熱処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/30 567 ,  H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-043278   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 基板熱処理方法及び基板熱処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-019667   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 熱処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-018300   出願人:東京エレクトロン株式会社
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