基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304412
公開番号（公開出願番号）：特開2001-127034
特許番号：特許第3798201号
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理液を用いて基板を処理する基板処理装置において、処理液が内部を流通する処理液流通配管と、前記処理液流通配管の近傍に設けられ、少なくとも、前記処理液流通配管内の処理液の流れ方向に幅を持つ光を前記処理液流通配管に向けて発する投光部、および、前記処理液流通配管を挟んで前記投光部に対向する位置に設けられ、前記投光部から発せられて前記処理液流通配管を透過した処理液の流れ方向に幅を持つ光を受ける受光部を有し、前記処理液流通配管内の処理液に含まれる気泡を検出する光学式検出機構とを備え、前記投光部から発せられて前記処理液流通配管を透過し、前記受光部で受けられる光は、処理液の流れ方向の幅が処理液の流れ方向に直交する方向の幅よりも長い断面を持つ光であり、前記受光部により処理液中の気泡の発生量に応じた受光量が得られることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ( 200 6.01) , G01N 21/85 ( 200 6.01) , G01N 29/02 ( 200 6.01) , H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/306 J , G01N 21/85 B , G01N 29/02 , H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 648 K

引用特許：

出願人引用 (9件)

薬液供給装置及び薬液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-247429 出願人：ソニー株式会社
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198566 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-327904 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325332 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
薬液供給装置及び薬液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-247429 出願人：ソニー株式会社
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198566 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

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