特許
J-GLOBAL ID:201103065482270814
ガスセンサを用いたガスの検出方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
伊藤 洋二
, 三浦 高広
, 水野 史博
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-107758
公開番号(公開出願番号):特開2002-303598
特許番号:特許第4507438号
出願日: 2001年04月05日
公開日(公表日): 2002年10月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板(1)と、該基板に形成されガスの脱着により物性値が変化する感応膜(5)と、該感応膜の温度を制御するために前記基板に形成されたヒータ(3)と、前記感応膜の物性値変化を検出する機構を備えた検出手段(6a、6b)と、前記ヒータの温度を制御するヒータ制御手段(21)と、前記感応膜の物性値変化を解析する解析手段(22)とを備えたガスセンサを用いたガスの検出方法において、
前記ヒータを複数の温度(H1〜H6)に変化させて前記感応膜を複数の検出温度にし、該複数の検出温度における前記感応膜の物性値変化を検出することでガスの成分及び濃度の少なくとも一方を同定する場合に、前記感応膜の物性値変化を検出する前に、前記感応膜の温度を一旦所定の温度にすることにより前記感応膜を所定の状態に復帰させるガスセンサを用いたガスの検出方法であって、
前記感応膜を前記複数の検出温度にする際に、該複数の検出温度のうちの各々の検出温度にする前の全てにおいて前記感応膜の温度を一旦所定の温度にすることを特徴とするガスセンサを用いたガスの検出方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (12件)
-
ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-082001
出願人:ダイキン工業株式会社
-
特開平1-221649
-
半導体ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-321189
出願人:株式会社リコー
全件表示
審査官引用 (12件)
-
ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-082001
出願人:ダイキン工業株式会社
-
特開平1-221649
-
半導体ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-321189
出願人:株式会社リコー
全件表示
前のページに戻る