特許
J-GLOBAL ID：201103065502137415
酸化タンタル膜を用いたキャパシタ構造の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 清
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-006730
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349261
特許番号：特許第3316848号
出願日： 2000年01月14日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸化タンタル膜を所望の厚さで形成した後、650°C以上で前記酸化タンタル膜を熱処理する工程を、2回以上繰り返して容量絶縁膜を形成するキャパシタ構造の製造方法において、前記酸化タンタル膜の形成と前記熱処理との間に、前記熱処理よりも低い温度で酸化タンタル膜の酸化熱処理を行う工程を含むことを特徴とする、酸化タンタル膜を用いたキャパシタ構造の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/8242
, H01L 21/316
, H01L 27/108
H01L 21/316 P
, H01L 27/10 621 B
, H01L 27/10 651
