特許
J-GLOBAL ID：201103065849418058
物品表面の清浄化方法およびそのための清浄化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-011001
公開番号（公開出願番号）：特開2001-203182
特許番号：特許第4519234号
出願日： 2000年01月19日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面が付着物で汚染された物品の表面に過酸化水素を添加した塩基水溶液とオゾン水溶液を同時に供給し、その際に前記表面が継続して新鮮な塩基水溶液とオゾン水溶液に接触するようにすることによりオゾンを該表面で分解させ、連鎖反応で生じるHO2ラジカル、OHラジカルと塩基の作用により前記付着物を除去する物品表面の清浄化方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L 21/304 647 Z
, H01L 21/304 643 A
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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